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반도체 EUV 노광 포토 공정의 모든 것, TSMC, ASML, 니콘, 캐논프리씨전

반도체 EUV 노광 포토 공정의 모든 것, TSMC, ASML, 니콘, 캐논프리씨전

🧐 EUV란 무엇일까?EUV는 'Extreme Ultraviolet'의 약자로, 극자외선 리소그래피 기술을 말합니다. 반도체 EUV 기술은 극도로 짧은 파장의 빛을 사용해 더 작고 정교한 반도체 회로를 그릴 수 있게 해주는 최첨단 기술이에요. 기존의 ArF 리소그래피 기술이 193nm 파장의 빛을 사용했다면, EUV는 13.5nm 파장의 빛을 사용해요. 이렇게 짧은 파장 덕분에 훨씬 더 미세한 회로 패턴을 만들 수 있답니다.💡 반도체 EUV의 장점초미세 공정 가능: 7nm, 5nm, 심지어 3nm 공정까지 가능해져요.높은 집적도: 더 작은 공간에 더 많은 트랜지스터를 넣을 수 있어요.전력 효율성: 더 작은 칩으로 같은 성능을 내니 전력 소모가 줄어들죠.생산성 향상: 복잡한 다중 패터닝 과정을 줄일 수..

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  • · 2024. 7. 2.
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