반도체 에칭(식각, ETCH) 공정 및 관련 기업 리뷰, 램리서치 TEL 어플라이드

출처 : 삼성전자반도체 이야기

반도체 산업은 우리 일상생활에 깊이 자리잡고 있는 중요한 분야입니다. 특히 반도체 제조 공정 중 하나인 에칭 공정은 반도체 성능과 품질을 결정하는 핵심 공정이라고 할 수 있습니다.

 

이번 포스팅에서 반도체 에칭 공정에 대해 자세히 살펴보도록 하겠습니다.

 

반도체 에칭(Etching) : 에칭(식각)이 무엇일까?

에칭(Etching)은 반도체 제조 공정 중 하나로, 웨이퍼 표면의 특정 부분을 선택적으로 제거하여 원하는 패턴을 만드는 공정입니다. 이를 통해 반도체 소자의 트랜지스터, 배선 등의 구조를 형성할 수 있습니다.

 

에칭 공정은 크게 '습식 에칭'과 '건식 에칭'으로 나뉩니다.

 

습식 에칭은 화학 용액을 사용하여 웨이퍼 표면을 제거하는 방식입니다.

주로 등방성 에칭 특성을 보이며, 공정이 단순하고 비용 효율적입니다.

 

건식 에칭은 플라즈마를 이용하여 웨이퍼 표면을 제거하는 방식으로,

이방성 에칭이 가능하고 미세 패턴 구현에 유리합니다.

 

에칭 공정은 반도체 소자의 크기와 성능을 결정하는 핵심 공정입니다. 정밀한 에칭 공정을 통해 나노 단위의 미세 패턴을 구현할 수 있으며, 이는 반도체 집적도 향상과 성능 개선에 필수적입니다. 따라서 에칭 공정의 정확성과 재현성은 반도체 제조 기술 발전에 있어 매우 중요한 요소라고 할 수 있습니다.

 

반도체 에칭(Etching) : 주요 기술은 및 관련주?

 

 

에칭 공정에는 다양한 기술이 적용됩니다. 플라즈마 에칭, 화학 기계적 연마(CMP), 이온 빔 에칭 등이 대표적입니다. 이 중 플라즈마 에칭 기술은 가장 널리 사용되는 기술로, 정밀한 에칭이 가능하고 공정 제어가 용이합니다.

반도체 에칭 공정에 사용되는 주요 장비 기업으로는 램리서치(Lam Research), 어플라이드 머티리얼스(Applied Materials), TEL(Tokyo Electron Limited) 등이 있습니다. 

 

에칭 공정 장비를 만드는, 전세계에서 TOP3 안에 드는 굉장한 대기업으로, 최근 1년 사이에 상당히 높은 주가 상승이 이루어졌습니다. 주식에 관심이 있으신 분이라면, 에칭공정 장비를 독점하고 있는 TOP3 기업들의 주식을 분산 투자해보시는 것도 좋은 선택이 될 수 있습니다.

 

이들 기업은 최첨단 에칭 장비와 기술을 개발하여 반도체 제조업체에 공급하고 있습니다. 한국에서 이 공정분야에 진입을 시도한 적이 많지만, 잘 이루어지진 않았습니다. 

반도체 소자의 미세화가 지속됨에 따라, 에칭 기술의 발전 역시 필수적입니다. 극자외선(EUV) 리소그래피, 원자층 에칭(ALE) 등 새로운 에칭 기술이 개발되고 있으며, 이를 통해 더욱 정밀하고 효율적인 에칭 공정이 가능해질 것으로 보입니다.

 

이처럼 반도체 에칭 공정은 반도체 산업의 핵심 기술 중 하나입니다. 에칭 공정의 정확성과 효율성은 반도체 성능과 품질을 결정하는 데 있어 매우 중요한 역할을 합니다.